高純度ヨウ化水素ガスを企業化 | ニュースリリース

　当社（社長：中西宏幸）は、事業部SBDU（Strategic Business Development Unit 戦略的事業開発単位）として開発を進めてきた高純度ヨウ化水素（化学式：HI）を企業化することと致しました。

　当社は、1999年に事業部SBDUとして高純度HIの開発に注力し、TFT液晶の透明画素電極に用いられるITO（インジウム錫酸化物）のドライエッチング用に特化した市場開発を進めてきました。その結果、ユーザーから高い評価を得るとともに、今後、市場の大きな成長が見込まれることから、高純度HIの企業化を決定したものです。

　当社のHIは、不純物金属を使用しない独自の製法により製造されるため、純度99．999％以上への高純度化が容易で品質安定性に優れるとともに、かつ、コストパフォーマンスに優れています。既に、当社市原工場茂原センター（千葉県茂原市）にあるHI専用製造設備を整備することで30T/年の能力を確保しています。これにより、当社は、本年4月よりHIを製品として上市し、本格的な営業活動を行っていきます。

　高純度HIは、ITOのドライエッチングガスとして微細加工に適したサブミクロンの高精度な加工が可能で、かつ1000A（オングストローム）/分を超えるエッチング速度を有しています。
　TFT液晶のITOエッチングは現在、ウェットエッチングが主流ですが、液晶パネルの高精細化及び低コスト化の波に乗り、今後ドライエッチングが急速に増大してゆくものと見られています。すなわち、ウエットエッチングを含めたITOエッチング材料の市場は、ドライ用HI換算で現在約２０トン/年で、そのうちのドライエッチング市場は1トン/年程度ですが、5年後には、エッチング材料市場が８０トン/年程度まで拡大し、そのうちの約４割がドライエッチングガスになるものと見込まれています。
　当社の高純度HIは、現在までに国内の有力な液晶メーカー数社の実生産ラインに採用されている唯一のドライエッチング用ガスであり、当社は、先発メーカーとして今後も高いシェアを維持しながら、拡大するエッチングガス需要に対応していきます。

　また、当社は、ITOを中心に各種材料のドライエッチング性能を評価しています。高純度HIは他のハロゲン化水素に比べ解離エネルギー、イオン化エネルギーが低くドライエッチングには最適なガスとの結果を得ており、難エッチング材料のドライエッチングにも大きな可能性を持つ将来有望なガスと判断しています。当社は、今後も液晶ITOのドライエッチング以外の用途開発も進め、半導体、液晶分野での特殊ガスとして育成していきます