- 基本情報
概要
高純度特殊ガスの分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。
ジシランは、より高速に、より低温でのシリコン膜形成に最適なCVDガスです。各種電子デバイスの製造に役立っています。
高純度 自然発火性 分解性
特性
自然発火性
空気に触れるだけで発火しますので、厳重な取扱いが必要となります。
分解性
分解性に富み、他の物質と合わせると急激に反応します。
用途
低温・高速成膜プロセス用シリコン膜形成用CVDガス
製品に関するお問い合わせ
半導体・光学材料事業部
TEL03-6880-7465
FAX03-6880-7571
