世界をリードするフォトマスク用防塵カバー
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三井ペリクル™
フォトマスク用防塵カバー
主な用途
防塵用超薄膜部材(LSI製造工程)
用途分類
特性分類
- 基本情報
- 特性詳細
- 用途詳細
概要
三井ペリクルは、フォトリソグラフィーでの各露光波長に対して耐光性のある膜材料を選択し、高い透過率を得られるように膜厚設計したフォトマスク用防塵カバーです。
フォトマスクをクリーンに保ち、半導体の生産性向上に貢献します。さらに、三井ペリクルは経験と技術に基づいたサービスで、次世代フォトリソグラフィー技術に対応していきます。
製品に関するお問い合わせ
半導体・光学材料事業部