- 基本情報
- 特性詳細
- 用途詳細
概要
三井ペリクルは、フォトリソグラフィーでの各露光波長に対して耐光性のある膜材料を選択し、高い透過率を得られるように膜厚設計したフォトマスク用防塵カバーです。
フォトマスクをクリーンに保ち、半導体の生産性向上に貢献します。さらに、三井ペリクルは経験と技術に基づいたサービスで、次世代フォトリソグラフィー技術に対応していきます。
特性
光学特性
透過率99％以上。原料の前処理とスピンコート技術の組み合わせで、透過率の均一性を確保しています。
クリーン性
厳選した材料により、光劣化による異物化と昇華成分による異物化がありません。また、クラス１のクリーンルーム内で、クリーンロボットシステムを用いることで、高品質な製品を安定して製造しています。
膜寿命
露光光に応じた新素材開発を行い、長寿命を達成しています。
特性
製品群
KrFエキシマ用ペリクル
ArFエキシマ用ペリクル
主要メーカー製ステッパーに対応
Nikon Canon ASML
環境への配慮
製品ケースの回収リサイクルの実施
技術サポート体制の完備
取り扱い方法の紹介
品質問題の原因解明および対策
各種分析
用途
膜材の変遷
無発塵構造
アルミ合金フレーム表面を特殊な粘着材でコーティングすることで、フレームからの発塵を防ぎ、内壁に付着した異物も保持します。
発塵の原因となっていた両面接着テープを使用せず、特殊な接着剤をフレームに直接塗布しました。この塗布型マスク接着剤は、マスクからの剥離およびマスクの洗浄が容易です。
構造図
製品に関するお問い合わせ
半導体・光学材料事業部
