進化する電子デバイスプロセスを支える高純度特殊ガス
- 基本情報
概要
高純度特殊ガスの分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。
モノシランは、半導体素子、液晶素子、太陽電池、コピー機用ドラムなどの各種電子デバイスの製造プロセスにおいて、シリコン膜、シリコン酸化膜形成用のCVDガスとして使用されています。
特性
自然発火性
空気に触れるだけで発火しますので、厳重な取扱いが必要となります。
分解性
分解性に富み、他の物質と合わせると急激に反応します。
用途
半導体・液晶・太陽電池用シリコン膜、シリコン酸化膜形成用CVDガス
成膜例

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半導体・光学材料事業部
TEL03-6880-7465
FAX03-6880-7571