低温・高速成膜プロセス用シリコン膜形成用CVDガス
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ジシラン
ジシラン
進化する電子デバイスプロセスを支える高純度特殊ガス
主な用途
用途分類
- 基本情報
概要
高純度特殊ガスの分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。
ジシランは、より高速に、より低温でのシリコン膜形成に最適なCVDガスです。各種電子デバイスの製造に役立っています。
高純度 自然発火性 分解性
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半導体・光学材料事業部
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FAX
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