進化する電子デバイスプロセスを支える高純度特殊ガス
- 基本情報
概要
半導体素子、液晶素子、太陽電池などの電子デバイス製造に、高純度特殊ガスは不可欠な原料です。この分野で業界をリードする三井化学は、豊富な合成・分析の技術経験を生かし、より高品位の特殊ガスを提供することで、電子デバイスの進化を支えます。
三フッ化窒素は、下関と米国ミシガン州に製造拠点を設置し、日米両拠点からの供給を行っています。“Same Quality from 2 Sites”の活動理念の基に、全世界に拡がる販売拠点を活用したグローバル化を推進しています。
特性
クリーン性
高性能なドライクリーニングガスとして、半導体・液晶素子の製造装置の内部を、常に清浄に保つために役立っています。
用途
半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤
エッチング/クリーニング例

容器
(例)

各種大型容器対応が可能です。

カスタマイズいたします。
製品に関するお問い合わせ
半導体・光学材料事業部
TEL03-6880-7465
FAX03-6880-7571