三井化学、EUVペリクルの商業生産を開始

三井化学株式会社（所在：東京都港区、代表取締役社長：橋本 修）は、今般EUVペリクルの商業生産を開始しましたのでご報告します。当社は、半導体リソグラフィー分野で世界No.1のASML（Veldhoven, the Netherlands; President & CEO: Peter Wennink）から、本EUVペリクル事業のライセンス契約を受け、その設計と技術に基づき同製品の生産設備を当社岩国大竹工場内に新設、今回世界に先駆けて商業生産を行うものです。
当社は、EUVペリクルなどICT分野関連製品群を通じ、半導体の更なる微細化への貢献など、お客様の技術革新要請に対応することで広く社会に貢献していきます。

EUVペリクルとは

今般、第5世代移動通信システム（5G）導入によるデータ通信の超高速化は、スマートフォンの更なる高機能化とそれを支える半導体の高性能化をもたらします。先端デバイスに用いられる半導体では、回路線幅7nm以下の超微細化が必要であり、超短波長であるEUV露光技術の採用が本格的に拡大しております。EUVペリクルはその露光工程で利用されるフォトマスクの防塵カバーとなります。

ASML社とは

ASML社は半導体の露光（リソグラフィー）機メーカー世界最大手であり、EUV露光機及びEUVペリクルの開発に成功した唯一のメーカーです。

当社の強みは

当社は、露光工程の防塵カバー「ペリクル」を1984年に発売して以来、半導体の微細化に合わせたペリクルの改良と製品品質の向上に努めて参りました。ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウがEUVペリクルの生産にも生かされています。今後EUV露光機の進化に合わせてEUVペリクルの技術改良・革新をASML社とともに取り組んでまいります。

用語解説

＊1 リソグラフィーについて

集積回路 ICや液晶ディスプレイなどの製造において、光を用いて微細な加工を施す技術です。半導体ウェハー上に感光性有機物質（フォトレジスト）を塗布し、露光装置を用いて、フォトマスクに描かれた素子・回路のパターンを焼き付けます。

＊2 ペリクルについて

フォトマスク用防塵カバー。フォトマスクをクリーンに保ち、半導体の生産性を向上させるもの。ペリクルを使用することで、異物による半導体ウェハーの製造不良を防ぎます。

以上